The Practical Use of Residual Gas Analysis

요약

이 서류Ꮘ= 0;서는, 우리ᇛ= 6; 성격Ꮽ= 2; 나탄= 6;기를 위한 잔여 기체 분석 (RGA)의 신청Ꮽ= 2; 토론ᕕ= 6;고 수리 유포 로 및 급속ᕖ= 0; 열은 (RTA) 반응ᅫ= 2;를 단련ᕖ= 0;다. 성격Ꮽ= 2; 나탅= 0; 보기 공구ᇛ= 6; Tokyo Electron Ltd. (T.E.L.) = 9688;직 대기 로, 수직 저압 화학 수증ᅫ= 2; 공술ፏ= 6; ( LPCVD) 로 및 Applied Materials (AMAT) = 4553;속한 열 금속 처리 및 급속ᕖ= 0; 열 가공Ꮖ= 9;자이었다.

소개

현재 최&#= 49888;식 반도체 제조는 그 어&#= 45712;때 보다 훌&#= 47469;한 크기의 도전을 제기한다. 뿐만 아&#= 45768;라 기술은 과실을 위한 조&#= 44552; 방으로 지배되어야 한다, 또한 업&#= 47924;는 현재 세&#= 44228; 반도체 환경인 경쟁적인 경기장에서 이행되어야 한다. 사용자를 이 탐구에 숙달되는 가능하게 하는 공&#= 44396;는 얼싸안킬 것이다.

열 과&#= 51221;은 3개 중&#= 50836;한 매개변수 1 차로 에 좌우된다: 반응기 내의 온&#= 46020;, 가스 순&#= 49436; 조절, 가스 화&#= 54617; 및 압&#= 47141;. 온도와 압력 통&#= 51228;는 외부 닫&#= 55180; 루프 방&#= 48277; 을 통&#= 54644; 준비되어 있 그&#= 47084;나, 를 위&#= 54644; 주어진 유일한 통제 깨&#= 45803;는다 반응기 화학의 감시와 감독은 가스 순&#= 49436; 조절 표&#= 51201;이다; 이것은 반응기 화학이 가스관에 있는 외&#= 48512; 누출 반&#= 51025;기 물개 분&#= 45824;, 배출에서 교류 반&#= 54872;에서 오염과 같은 효&#= 47141;에 의해 영&#= 54693;을 받기 때&#= 47928;에 예상된 비율에서 일어나지 않는 부&#= 51201;당한, 화학 반&#= 51025; 꺼 불&#= 47749;한 부산물을, 손상되는 조리법 등등 가&#= 51256;온인 것을.

가스 오염 탐지 기능Ꮿ= 2; 이 수준Ᏺ= 0; 있고ᇛ= 6;과 가스 화학 기준ፐ= 0; 자료ኌ= 4; 모이ᅫ= 2;의 이득Ꮼ= 8; 찾앉= 4; 것이ᇣ= 6; 새로Ꮮ= 8; 기존ᕕ= 6;는 공구 체제 및= 과정Ꮿ= 2; 개선Ꮘ= 0;서는, 곤란ᕖ= 0; 가공 문제 또는 가공 편류ᄳ= 2; 발생ᕕ= 6;골 저것Ꮘ= 0;게 고쳐ᐭ= 6; 반응ᅫ= 2;를 지킬Ꮽ= 2; 위해 이전 알려ᐭ= 6; 조건 등을 맞댄 놓일 수= 있을 때= 가공 화학Ᏺ= 0; 성과Ꮘ= 0; 어떻ᅁ= 2; 의= 점에ፏ= 6; 영향Ꮽ= 2; 미치ᇛ= 6;지 공구 같이 지키ᇛ= 6; 공구 기능Ꮽ= 2; 자격Ꮽ= 2; 주걱= 8; 개량ᕕ= 6;는 것은 어울ኑ= 2;다, 비교Ꮘ= 0; 있는 사용Ꮽ= 2; 위한 반응ᅫ= 2;의 역사᐀= 1;인 성과ኌ= 4; 모이ᇛ= 6; 능력.

진공 오염 통제 없이, 공구Ꮿ= 2; 많은 것 체제와 공구 화학 일치ᇛ= 6; 집결 자료 - 아주 지루ᕖ= 0; 과정Ꮘ= 0; 시험 웨이ᔦ= 0; 뛰기ኌ= 4; 사용ᕕ= 6;여 끝나Ꮏ= 6; 할 것입ᇠ= 8;다. 더하Ꮚ= 8;, 이 반응ᅫ= 2;를 수리ᕕ= 6;는 것은 곤란ᕖ= 4; 수 있다. 반응ᅫ= 2;는 일반᐀= 1;으로 아주 오염Ꮘ= 0;와 포용ቪ= 1; 자유ቯ= 6;운 오염 대단ᖍ= 6; 낮게Ᏺ= 0;다; 가스 오염 탐지ᇛ= 6; 반응ᅫ= 2; 내의 `동료Ꮘ= 0;게 엔지ᇠ= 8;어를' 허용ᕕ= 6;고 백만 당 1개 더 낫게 부품Ꮿ= 2; 감도ኌ= 4; 가진 진짜 시간Ꮘ= 0; 있는 화학Ꮽ= 2; 측정ᕖ= 0;다.

결과

잔여 기&#= 52404; 분석 자&#= 47308;는 사전 행&#= 46041;적으로 공구 성&#= 44284;를 개량하고 과정과 체제를 개량하기 위하여 가지고 가는 수&#= 47566;은 활동에서 도왔다. 뒤에 오&#= 45716; 3개의 보&#= 44592;는 Texas Instruments (KFAB)에 놀&#= 46972;웠던 것에서 한 3개의 다른 용&#= 46020;를 설명한다.

보기 = 1: 잔&#= 50668; 기체 분석의<= /b> 사용은<= /b> 급속한<= /b> 열 의 체제에서 원조하는 약실을<= /b> 단련한다= :

급속ᕖ= 0; 열 설치Ꮿ= 2; 보기ᇛ= 6; 숫자 1에서 송이 공구ኌ= 4; 보인ᇣ= 6; 단련ᕖ= 0;다. 가스 오염 탐지ᇛ= 6; 진행ᕕ= 6;는 분쟁 해결 노력Ꮽ= 2; 보충ᕕ= 6;기 위하Ꮚ= 8; 행해ᐇ= 6;다; 급속ᕖ= 0; 열은 2개의 인증 시험Ꮽ= 2; 사용ᕕ= 6;여 공구ኌ= 4; 자격Ᏺ= 0; 된다 단련ᕖ= 0;다: 알려ᐭ= 2; 진한 액체ቯ= 6; 처리ᕖ= 0; 웨이ᔦ= 0;를 단련ᕕ= 6;는 것은 벌거ዛ= 9;은 실리ᒼ= 0; 박편 및 간격 및 간격 균등ፑ= 7; 측정ᕕ= 6;기에 산화ኹ= 2;을 성장ᕕ= 6;는 장 저항 의 측량Ꮘ= 0; 의해 따랐ᇣ= 6;. 1 차 증후ᇛ= 6; 다른 유사ᕖ= 0; 공구Ꮘ= 0;서 동일ᕖ= 0; 체계 또는 2개의 반응ᅫ= 2;에 거치ሂ= 4;는 어느 것이ሖ= 4; 반응ᅫ= 2; B가 이 반응ᅫ= 2;에 의하Ꮚ= 8; (a) 일치ᕕ= 6;지 않았ᇣ= 6; 이었ᇣ= 6;. 온도 비틀ᅫ= 2;가 공구Ꮘ= 0; 장 저항Ꮘ= 0;서 조정ᕕ= 6;기 위하Ꮚ= 8; 한 경우Ꮘ= 0; 특히, 산화ኹ= 2; 간격Ꮼ= 8; 어울ኑ= 2;지 않으ኤ= 8; 산화ኹ= 2; 간격Ᏺ= 0; 안으ቯ= 6; 꼬집ᖎ= 0; 경우Ꮘ= 0;, 장 저항Ꮼ= 8; 어울ኑ= 2;지 않을 것입ᇠ= 8;다.

산화물 성&#= 51109; 자격 과&#= 51221;은 질소 백% 로 퍼&#= 51648;에 선행된 실제적인 이산화 실리콘 성장을 위해 산&#= 49548; 백% 사&#= 50857;한다. 잔여 기&#= 52404; 분석을 사용하여, 일단 산&#= 54868;물 공술서 과정이 시작되면 퍼지 질&#= 49548;는 숫자에서 설명되는 것과 같&#= 51060; 대응 온&#= 46020;를 위해 예&#= 49345;되는 보다는 더 얇&#= 51008; 산화물의 결과로 산소 완&#= 51204;하게 대체되지 않았다는 것을 것&#= 51012; 발견되었다:

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숫자 1: RTA 약실의<= /b> 가스 단계 오염 탐지

이 정&#= 48372;로 알려, 공구 장&#= 48708; 엔지니어는 영 표&#= 51201;에 질량 흐&#= 47492; 관제사만 교류를 제한하고 있었다 질소의 교류를 끄는에 책임있던 압축 공&#= 44592;를 넣은 벨&#= 48652;가, 그러므로 닫히는 받고 있&#= 50612; 않아다는 것을 것&#= 51012;이 발견했다, 명령을. 이것은 모&#= 46304; 4개의 반&#= 51025;기에 진실하기 명백하게 반응기 A에 질&#= 47049; 흐름 관&#= 51228;사가 교류 (주 제&#= 54620;에 보다 적&#= 44172; 성공적이었다 그러나, 위하여 찾&#= 50500;냈다: 가스 교&#= 47448; 관제사는 긍정적인 차단 장&#= 52824;이기 위하여 디자인되지 않는다). 장비 엔&#= 51648;니어는 고립 압&#= 52629; 공기를 넣은 벨&#= 48652;를 닫아 달&#= 46972;고 하도록 시스템 구성에 수정해서 그 때 산화 과&#= 51221;이 달리고 있는 동&#= 50504; 문제를 해결했다.

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보기 = 2: 대&#= 44592;압 로를 수리하는= 가스 오염 탐지의<= /b> 사용:

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숫자 2: 대기압 산화 로의 가스 오염 탐지

대기 산&#= 54868; 로 수&#= 47532;의 보기는 숫자 2에서 상&#= 44592; 보인다. 유사한 공&#= 44396;에 비교될 때 공&#= 44396;는 관의 하&#= 48512;에, 배치의 맞은편에 비균일 간격을, 특히 이&#= 47111;게 전시하고 있었다. 잔여 기&#= 52404; 분석 자&#= 47308;를 사용하여, 석영 질&#= 49548; 퍼지에서 가공 질&#= 49548;가 저 지&#= 50669;에 있는 그&#= 47532;고 이렇게 저 지&#= 44396;에 있는 웨&#= 51060;퍼에 있는 빈&#= 50557;한 간격 균&#= 46321;성의 결과로 산소 반&#= 51025;물 양을 묽&#= 44172; 하는 로&#= 51032; 밑바닥 지역으로 새고 있&#= 50632;다는 것을 결&#= 51221;되었다. 숫자 2는 질&#= 49548; (대략 300%)의 가장 큰 농도가 있는 밑&#= 48148;닥 지역 을 가진 로&#= 51032; 최고 지&#= 50669; 그리고 밑바닥 지역에 있는 보&#= 50668;준다 질소 양&#= 51012;

.

이것에게 발&#= 44204;을 주어, 공구 석&#= 50689;은 감사되고 석영 질&#= 49548; 퍼지 교&#= 47448;에 변화 및 이것과 함께 설&#= 52824;된 더 나&#= 51008; 바다표범 어업 부&#= 49549;은 간격 균&#= 46321;성 지역에 있는 그&#= 47532;고 또한 전&#= 52404; 짐의 맞&#= 51008;편에 좋은 개&#= 49440; 지역으로 구분하기 위하여 귀착되었다.

  = ;            &n= bsp;            = ;            &n= bsp;

보기 = 3: 저&#= 50517; 화학 수증기<= /b> 공술서<= /b> ( LPCVD) 로의 과정을<= /b> 개량하는= 잔여 가스 탐지의<= /b> 사용:

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숫자 5: 저&#= 50517; 화학 수증기<= /b> 공술서<= /b> (LPCVD) 과정을 개&#= 47049;하는 진공 오염 통제의<= /b> 사용

잔여 기&#= 52404; 분석은 또한 조&#= 47532;법의 체제에서 사용되었다. A를이다 과정 B 보&#= 45796;는 안정되어 있는 과&#= 51221; 가공하십시오; 가공 B에&#= 45716; 최대 물&#= 51032; 백만 당 315 부품이 (PPM) 대 최대 물&#= 51032; 백만 당 114 부품을 가진 과&#= 51221; A (PPM) 다는 것&#= 51012; 숫자 5를 의 위&#= 50640; 언급해서, 보일 수 있다. 2개&#= 51032; 과정 사&#= 51060; 다름은 기본적인 압력 다&#= 47492; 이었다: 가&#= 44277; B 기초는 400/760의 대기압에 대 과&#= 51221; A.를 위&#= 54620; 150/760의 대기압있&#= 45796;. 자료는 정보 더&#= 47484; 과정 B.의 실시에 대하여 결론 에 오기 위&#= 54616;여 가공 엔&#= 51648;니어에게 제공했다.

결론

진공 오&#= 50684; 통제는 놀라우 반도체에 있는 열 과정의 감시를 위한 뜻&#= 44618;은 자산일 수 있&#= 45796;. 체계는 기계와 과정 문&#= 51228;를 수리하고, 반응기를 성격을 나타내고 , 공정개발을 강화하기 위하여 이용되었다.   잔여 기&#= 52404; 분석의 사용은 각 "비&#= 53952;기"가 즉&#= 49884; 대응 시&#= 54744; 웨이퍼 뛰기를 효력 및 결과는 가스 화&#= 54617;의 기간에서 즉시 보&#= 51068; 다는 것&#= 51012; 보기 필&#= 50836;로 하기 때&#= 47928;에 시험 웨&#= 51060;퍼의 수를 감&#= 49548;시킬 수 있&#= 44256; 또는 목&#= 54364;를 성취하기 위하여 필요한 달린다.=

공구는 분쟁 해&#= 44208; 대기압 과정 에 있는 특&#= 55176; 귀중품을 증명했다. 이 공&#= 44396;의 대부분에, 내장된 기능은 아주 한&#= 51221;될 수 있&#= 45796;. 체계는 상승 누&#= 52636; 체크의 비율을 위해 아&#= 47560; 양수될 수 없&#= 45796;.   질량 흐&#= 47492; 통제는 동일한 이유를 위해 시&#= 54744;될 수 없&#= 45796;. 그리고 표준 헬&#= 47464; 누출 검&#= 49688;원의 사용은 효과 없&#= 45796;. 분석 계&#= 44592;는 이러한 경우에는 도울 수 있다.=

성격을 나타내는 것은 가&#= 44277; 엔지니어 에의한 지적인 결정을 허용했다. 때때로, 이&#= 51204;에 주목되지 않 갔&#= 50632;던 문제는 검출될 것입니다. 1개 큰 이점은 분쟁 해&#= 44208;이 필요하 때 앞&#= 51004;로는 올 것&#= 51060;다. 역사는 파일에 있을 것&#= 51060;다.

열 단&#= 50948;에 있는 가&#= 49828; 오염 탐&#= 51648;의 성공적인 사용의 보기가 설명되는 동안, 접&#= 44540;은 다른 "화&#= 54617; 종" 환&#= 44221;에서 사용될 수 있&#= 45796;. 성공에 열쇠는 좋은 성&#= 44284;로 빨리 반&#= 51025;하는 기능 이&#= 45796;.

진공 오염 제어 모델

진공 오&#= 50684; 통제를 위한 본&#= 48372;기 모형은 IBM<= span lang=3DKO style=3D'font-size:12.0pt;font-family:Batang;mso-ascii-font-famil= y:"Times New Roman"; mso-hansi-font-family:"Times New Roman";mso-fareast-language:KO'>에 찾아낼 수 있&#= 45796;. IBM는 긴 역사가 순서 관&#= 47532; 및 결&#= 54632; 금지를 위한 이 기술을 의지 있&#= 45796;. 매우 그&#= 46308;의 경험의 학문에서 학구적일 수 있&#= 45796;.

IBM는 한 번 그들의 분석 계&#= 44592; 통합에 거의 완&#= 51204;하게 독립적이었다. 그들은 중요한 공급자에게서 가스 오&#= 50684; 질량 분&#= 49436;계를 구매하고, 그러나 소프트웨어를 위해 내&#= 48512; 자원을 이용했다. 더하여, 그&#= 46308;의 하드웨어 인터페이스 단위 전&#= 48512;는 내부에 생성했다 ("IBM 잔여 가&#= 49828; 분석 체&#= 44228;"는 수&#= 45380; 동안 BOC 가&#= 49828;를 통해서 IBM<= span lang=3DKO style=3D'font-size:12.0pt;font-family:Batang;mso-ascii-font-famil= y:"Times New Roman"; mso-hansi-font-family:"Times New Roman";mso-fareast-language:KO'>의 유효한 외부이었다).

IBM 팀의 중요한 일원이 은퇴할 때, 전&#= 47029;을 변경하기 위하여 결정되었다.

오늘 IBM는 MKS Instruments로= 공동체정신을 시작하고, 그러나 아직도 크게 = 4277;급자의독립이다= ;. 그들의 내부 = 4016;은 통합 = 9548;프트웨어를 책임진다. 하드웨어 인터페이스 단위는 IBM= 0640; 의하여 공급된 명세에 부응하는 MKS Instruments를 = 3685;해서 취득된다.

요점Ꮼ= 8; 점에 = 1200;것 분석 = 4228;기 공급자에 의존하 것이 = 6104;어 달라고 한다 IBM= 0640;게이다. 지적 = 1116;산 관심사는 중요한 고려사항이다.

가스 오염 탐지 해결책을 설계하기 위하여는, 그것의 역사를 포함하여 웨이퍼 의 환경에 = 1333;합 정보가, 있는 것이 필수이.

효과᐀= 1;으로 가스 = 0724;염 탐지를 실행하기 위하여 고객을 있다 = 9440;택이 프로그램하십&#= 49884;오: 그가 = 1473;요한 사용자가 되어서 좋다 = 8516;석 계기 = 4540;래트홈에 완전히 유능하게 그런 = 6104;는, 또는 = 0756;전히 납품업자에게 모든 = 0920;이퍼 정보를 적발하십시오.

잔여ᇺ= 1;립에 의하여, IBM는 또한 뿐만 = 0500;니라 체계가 보증 = 4592;간 후에 = 1089;용할 것이라는 점을 = 4536;들의 지적 = 1116;산을, 그들 = 8372;증한다 보호한다.

"진보된 소프트웨어"는 에 의하Ꮚ= 8; 제안했다 분석 = 4228;기 기계설비 회사는 성공을 위해 특별한 자원을 요구한다.<= /p>

고객Ᏺ= 0; 분석 = 4228;기 공급자에게서 소프트웨어를 지배하는 것이 = 4032;능하다. 원래 IBM = 9548;프트웨어 시스템 ("A.P.L.: 프로그램 언어는") 아주 서툴ቦ= 4;다 . 그러나, = 4256;객이 거대한 투자 = 0630;이 가스 = 0724;염 탐지 = 4644;결책을 실행하는 것을 = 8148;라는 경우에, = 1092;여 기체 = 8516;석 공급자에게서 소프트웨어를 아니다 적당한 선택이 "전진했다".

가동으로 삽&#= 51077;해서, 진&#= 44277; 오&#= 50684; 통&#= 51228; 기&#= 44228;설비 회&#= 49324;는 가&#= 44277; 통&#= 54633; 전&#= 47928;가가 되&#= 45716; 것&#= 51012; 희&#= 47581;한다. 이 기&#= 49696;은 가&#= 44277; 통&#= 54633; 전&#= 47928; 기&#= 49696;을 필&#= 50836;로 할&#= 51648;도 모&#= 47480; 클&#= 46972;이언트와 가&#= 51652; 미&#= 47000; 사&#= 50629;으로교묘히 다루십시오, 특&#= 55176; 그 때 일 수 있&#= 50632;다.

우리Ꮿ= 2; 제품 (In Situ Host) 대안을 제안한다. IBM로 = 5796;량은 취득한다 밖에에서 잔여 = 4592;체 분석 = 4592;계설비를, 우리의 제품 (In Situ Host) 중요한 공급자에게서 기계설비를 이용한다. 중요한 사용자는 내부 = 1068; 것이라는 점을 = 4536;리고 IBM가 = 8372;증하기 때문에, = 0864;리의 제품 (In Situ Host) 사용하기 쉬운 = 1064;터페이스 설계를 가진 = 1060; 선택을 촉진한다.

더하Ꮚ= 8;, 우리의 제품 (In Situ Host)는 고객Ꮿ= 2; 자료 = 2285;고 (완전히 고분고분한 COM)로 = 9789;게 통합해, "인 허용ᕖ= 0; 가스 = 0724;염 탐지 = 4208;과를자료는 채광했다= ”.

참고:

열 &= #44032;공 단위에 있는 잔여 기체 분석의 실제적인= 사용 (“The Practical Use of Residual Gas Analy= sis in a Thermal Process Module),” 반도체 제조를 위한 국제적인= 사회

(Intern= ational Symposium on Semiconductor Manufacturing) (ISSM) Proceedings, 2001, = Brian Bradshaw & Jimmy Hashem (Texas Instruments – KFAB)

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웹사이5= 944;

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