The alarm evaluator: evaluates the alarm condition set by formula, t= he persistence setting, and the pressure excursion filter

Überwachung = eines Halbleiter-Radierung Vorrichtung Werkzeugs mit Restgas Analyse

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Einleitung

Halblei= terradierung Vorrichtung Prozesse sind wegen der Zahl bedeutenden Variablen schwierig.&n= bsp; Gasförmige Verschmutzung Abfragung (RGA) kann dem Benutzer helfen, meh= rere dieser Variablen, einschließlich Chemieaufbau, der gasförmigen Verschmutzung und des Reaktion Produktes zu überwachen.

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Um dies= e Funktion automatisch durchzuführen, muß das Wirt System die Zustandinformationen haben, die genügend sind den Prozeßschritt = des Werkzeugs zu kennzeichnen, und dieses Informationsbedarf für die Masch= ine Logikmaschine vorhanden zu sein. Der Wirt muß kennzeichnet Prozeßanfang, Schrittänderungen und Prozeßbeendigung.

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Halblei= terradierung Vorrichtung ist ein Beispiel der Verschmutzung Abfragung Anwendung, die ein= en intelligenten Wirt erfordert. Wenn wir die Vakuumkammer überwach= en, sehen wir offensichtliche Quellen der Chemieänderung. Z.B. Halbleiterelementübertragungen vom Last Raum. Es sei denn das Sy= stem die gegenwärtige Tätigkeit begreift, ist korrekte Diagnose unmöglich. Unser Produkt (In Situ Host) verteilt die Perio= den so, daß normale Exkursionen ignoriert werden können und die unterschiedlichen Steuerbegrenzungen kann zugetroffen werden gründete = auf der gegenwärtigen Tätigkeit.

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Um gasförmige Verschmutzung Abfr= agung Instrument wird der Werkzeugmonit= or. Das Werkzeug wird ununterbrochen für aus Steuerzustand heraus polizeil= ich überwacht.

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Nutze= n

1. R= ealzeit: die meiste Prozeßsteuerung schemes Test die Vollständigkeit der Prozeßwerkzeuge regelmäßig, aber es kann bedeutende Gefahr= in den Abständen zwischen den Qualifikationen geben. Eine Schicht Prüfung zu addieren, daß ununterbrochen das System überwach= t, ist eine bedeutende Verbesserung zum vollständigen Betrieb.=

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2. Verringern Sie die Zeit, die auf Qualifikationen verbracht wird: einmal wird die Glaubwürdigkeit und die Zuverlässigkeit des Realzeitmonitors hergestellt, herkömmliche Prozeßsteuerung Methoden werden weniger kritisch. Die herkömmliche Testfrequenz kann, mit einer gesamten Verbesserung in der= Qualität der Prozeßsteuerung und mit weniger Zeit verringert werden, die f&uum= l;r das Halbleiterelement-Radierung Werkzeug erfordert wird, vom Normalbetrieb entfernt zu werden.

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3. F= ehlersuche: Die Halbleiterradierung Vorrichtung Verarbeitung ist sehr kompliziert. Haben eines an Aufstellungsortchemiemonitors kann helfen, wenn es schwierige Probleme löst.

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Nutzen = vom Halbleiterradierung Vorrichtung Monitor schließt die Realzeitkontrolle ein, die Stillstandszeit für Qualifikation schließlich verringert werden kann, und diese überprüfungstätigkeit wird erheblich wirkungsvoller.

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Eine in= telligente Maschine, fähiger Wirt kann helfen, vergeudete Halbleiterelemente, ZunahmeHalbleiterelement-Radierung Werkzeugverwendbarkeit zu verhindern und verringert Mittelzeit zu reparieren.

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Beispiele

Der Hal= bleiterradierung Vorrichtung Prozeß hat mehrfache Schritte mit jedem Schritt, der eine einzigartige Chemieunterzeichnung hat. Ein Maschine intelligenter Wirt muß anwendet ein einzigartiges Steuermodell für jeden Schritt.

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Ein BeispielHalbleiterelement-ätzungprozeß konnte die folgenden Schr= itte haben: Substratübertragung, neuer Chemieaufbau A, Wartezeit für Stabilität, Hochfrequenzenergie an, Anfangsschritt, neuer Chemieaufbau= B, Massenätzung, neuer Chemieaufbau C, ätzungbeendigung Schritt des Endpunktabfragung Schrittes (hohe Selektivität).

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Es ist = notwendig für eine fähige Wirt Anwendung, zu diesen Schritten zu synchronisieren. Z.B. wird ein anderes Modell für den Halbleiterelementübergangsschritt (Schritt 1) vom Modell für den ätzung beendigung Schritt (Schritt 5) angefordert.

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Unser P= rodukt (In Situ Host) würde zu diesem Prozeß indem die überwachung einer Kombination der Signale synchronisieren, welche die Einleitung der Prozeßgase steuern und die analogen Ziele für das= Gas fließt. Die Logikfähigkeiten lassen ein anderes Modell für jeden Schritt zu.

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Der Halbleiterradierung Vorrichtung Monitor = kann benutzt werden, um den System Prozeß effektiv zu qualifizieren.[1]

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Unser Produkt (In Situ Host) liefert komplet= te Qualifikation des Prozeßklimas der Oblate.

Proz= eßstöchiometrie:

Das Prozeßgas und die Plasmaprodukte können gemessen werden und quantitativ bestimmt werden. Indem man die Produkte der Reaktion quantitativ bestimmt, wird die Plasma Energiedichte angedeutet.<= /span>

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Zu eine= m Niveau von ungefähr einem Teil pro Million (1 * 10-6)), kann das Prozeß= gas qualifiziert werden. Ein System an Texas Instruments erlitt ein verschmutztes Sauerstoff-Versorgungsmaterial, und das angebrachte gasförmige Verschmutzung Abfragung Instrument wurde für Kennzeich= nung des Problems benutzt. [2]

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Vaku= um läuft c auss= ein sofort gekennzeichnet. Dieser Test ist nicht mit der Standarddichthei= tsprüfung überflüssig. Etwas Leckstelle Positionen werden effektiv mit einem an der richtigen Stelle gasförmigen Verschmutzung Abfragung Instrument geprüft.

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Z.B. is= t eine Leckstelle im Gasverteilerrohr im Bereich mit den Gasfluss-Menge Steuerpult= en ein Bereich nicht gänzlich geprüft durch Standard techniken. Wenn das vielfältige Ventil des Gases geschlossen ist oder ein GasSteuerung des Datenflussesziel auf Null gestellt wird, dann wertet die Dichtheitsprüfung nicht das lokalisierte Volumen aus.

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Wartung Wiederaufnahme:

Halblei= terradierung Vorrichtung Werkzeuge erfordern den Reaktor, für Wartung regelmäßig gelüftet zu werden. Während der Wiederaufnahme kann ein Bord chemiemonitor die, vielen Stunden notwendig zu warten vermeiden, niedrigen Druck zu prüfen. In der Hinzufü= gung unser Produkt (In Situ Host) integriert leicht in das Datenlager des Ku= nden (völlig COM gefällig) und läßt das gasförmige Verschmutzung Abfragung Instrumentresultat sein Datenbank prüfte.

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Um das gasförmige Verschmutzung Abfragung Instrument zum Betrieb des Werkzeug= s zu synchronisieren, müssen Zustandinformationen eingeholt werden. Für diese Funktion a Suite der technischer Bausteine ist für Funktionen wie das M= aß von vorhanden entgasen Sie Lampe Intensität= oder der Befehl Zustand von übergangs raum In Situ Hosts<= /span>. Die Software schließt seamlessly diese Informationen in ein unsere Produkte (In Situ Host) Analyse und Sätze das Automatisierung Auslösen.

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^[1] B. Bradshaw und T. Schneider, „Proz= eßüberwachung der Wolframchemischer Dampf-Absetzung und des Etchback mit Restgas-Analyse“, Institut für Klimawissenschaften Proceedings, = 1996

^[2] Thomas P. Schneider, Ferran wissenschaftlich (z.Z. mit Cree halb); u= nd Kelly J. Taylor, David A. Rothenbury, Markierung Chavis, Timotheegras Hoff = und Craig H. Huffman, Texas Instruments,“ Teilweisdruck Analyse verwenden, um Verschmutzung in einem Sauerstoffgas-Versorgungsmaterial zu ermitteln“, Mikrozeitschrift 1999.

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